Electron beam lithography also possible on uneven surfaces

Researchers from the SNI network have developed a new method for applying electron beam lithography to uneven surfaces. They are working with a floating resist that enables uniform coating. The work was published in the scientific journal AIP Advances.

Forschende aus dem SNI-Netzwerk haben eine neue Methode zur Anwendung der Elektronenstrahllithografie auf unebenen Oberflächen entwickelt. Sie arbeiten mit einem schwimmenden Resist, der eine gleichmäßige Beschichtung ermöglicht. Die Arbeit wurde in der Fachzeitschrift AIP Advances veröffentlicht.

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