ОПЭКС ∎ Лекция №3 ∎ 16.02.2021 ∎ 3 курс 6 семестр

Лекция №3
Процессы и оборудование для очистки поверхности подложек
▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬
Тайминг роликов: (за такой труд и лайк поставить не стыдно, я же стараюсь для всех нас)
▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬▬

0:00 Начало лекции
1:10 Содержание лекции
2:46 Понятие "чистой поверхности"
7:58 Способы удаления загрязнений
16:48 Методы удаления загрязнений
19:36 Классификация методов очистки
22:58 Способы жидкостной обработки
24:12 Физическое обезжиривание
26:28 Химическое обезжиривание
27:16 Виды травления
28:03 Химическое травление
30:57 Полирующее травление
32:36 Селективное травление
34:23 Электрохимическое травление
36:00 Интенсификация процессов очистки
40:12 Оборудование УЗ очистки
42:22 Оборудование химико-динамического травления
44:07 оборудование анодно-механического травления
47:27 Способы очистки подложек
52:09 Продолжение. Ионное травление
57:55 Продолжение. Плазмохимическое травление
1:06:35 Конец лекции
1:07:14 Остается ли осадок при летучем испарении?
1:10:49 Что такое виброцентрефуга и для чего?