Научный семинар НЦФМ по перспективам создания российского EUV-литографа для микроэлектроники

preview_player
Показать описание

ИСТОЧНИК: НЦФМ

НАУЧНЫЙ ПОРТАЛ «АТОМНАЯ ЭНЕРГИЯ 2.0»

СОЦИАЛЬНЫЕ СЕТИ

О ПРОЕКТЕ

СОТРУДНИЧЕСТВО И РЕКЛАМА
Рекомендации по теме
Комментарии
Автор

Огромное спасибо. Продолжайте делать подобные доклады иначе не получится выбить из голов парадигмы уныния.

Единственное что со звуком совсем беда😢

amaxkaluga
Автор

Очень интересно, рад что наткнулся на данную лекцию, спасибо!

sinsinegobaffa
Автор

Первое видео которое смог найти на Ютубе где грамотно рассказывается о микроэлектроники. Научные исследования в России ведутся на серьёзном уровне. Есть экспериментальное оборудование, многочисленные научные труды. Сотрудничество между различными институтами и организациями.

abv
Автор

Доктор молодец! В теме по самые уши. Удачи ему!

МихаилШахов-ву
Автор

Большая благодарность за лекцию! Просто шикардос!

ivanivanov
Автор

Очень интересное видео. Удивительно, какие наработки и есть уже целые десятилетия.

soloviewoff
Автор

Сапожники без сапог. Наши ученые, получается, разрабатывали очень много для ASML (хоть и не все), но у нас этого нет. Нам это оборудование даже продать не хотят. Какая прелесть

Олег-лбг
Автор

По любому то, что сами изготовим будет лучше, чем китайское "старое барахло".😊 Надо понимать, что Китаю не нужна высокотехнологичная и сильная Россия😢

valentina_
Автор

Когда услышал новость, что в России могут создать современный литограф, то, честно говоря, не поверил. Но прослушав эту лекцию я понимаю, что это вполне осуществимо. И если бы правительство всерьез подошло к этому вопросу, а так же ассигновало бы на это необходимые средства, то не то что к 2030, но и гораздо раньше у нас появился бы вполне приемлемый литограф.

МартинЛокхид
Автор

Спасибо за лекцию. Доступно! Хорошо что школа жива и не прерывалась, это достижения наших лет а не как любят рисовать.... про то что взяли схему из СССР и просто сделали.

Надеюсь все получиться ... правда про механику в видео ответов не было и в дорожной карте вроде тоже. А она вроде как помечена как проблема.

Надеюсь финансирование дойдет...

СергейХотеев-мъ
Автор

Жалко что безмасочная технология не взлетела. Надеюсь в будущем её удастся допилить...

БорисАверин-вф
Автор

Огромное спасибо - очень познавательно!

ulungasisop
Автор

0:00: Звук очень маленький - совсем его не слышно и не видно, потому, наверное, что литографа у меня нету.

кенгмитт-зф
Автор

Неужели нельзя было докладчику петличку прицепить, что бы не было таких проблем со звуком!

алекст-чж
Автор

Посмотрел, очень-очень хорошая лекция, прям не верится, что в России, спасибо, что это делаете, это очень интересно и очень важно, у меня вот несколько вопросов только возникло к Николаю Ивановичу, оставлю здесь, может потом скажете, очень интересно было бы знать)
Первый, по мелочам, по Релею и коэффециенту К1 в формуле. 100 нм вы сказали это разрешение CD или период pinch? Просто при NA 0, 94, c длиной волны 193 нм, как-то вроде много 100 нм, ведь Микрон и 90 и 65 нм вроде на длине 193 нм делал, и сюда же такой вопрос, внеосевое освещение, или же технология фазосдвигающих масок является освовой для уменьшения k1 до 0, 25? Просто все литографы ASML работают при частично когерентном освещении, вот насколько при этом освещении фазосдвигающие маски помогают уменьшить к1 или размеры элемента?
Другой вопрос, в лекции почему-то не упомянули про подложки, но где их будут брать, они ж должны быть наверно тоже какие-то для EUV очень-очень плоские? И для этого ж наверняка какая-то планаризация и.т.д. и т.п. Вот насколько изготовление таких пластин вообще в России возможно и ведётся ли? И вот я задумался что-то наподобие twinsсan'а это же тоже очень сложная система, ну как согласующаяся на 2-х разных столиках. Навряд ли это легко повторить. Ну как система совмещения и система сканирования с точностью до 1 нм, но в плоскости, это одно, может Планар и сделает, можно представить, но и это очень сложно. Но компенсация разновысотности по пластине, работа с осью z, работа с наклоном подложки и маски, согласование всех этих вещей в процессе экспонирования, это прям какая-то вообще отдельная неподъёмность, поэтому для меня большая загадка откуда взялась это цифра 66 пластин в час? Это очень много как-то. Вы можете заверить меня, что при такой пропускной способности CD по всей площади пластины на 66 подложках останется одиноковым? Потому что, ну какая у него максимальная глубина фокуса на этой длине волны может быть? Мне думается, что очень маленькая глубина должна быть. И это почти невозможно будет удерживать пластину в UDOF'е такой плоскости. И такой ещё вопрос, я недавно смотрел историю по созданию EUV и видел, что первые какие-то результаты с японскими зеркалами были получены на синхротроне в Америке вроде бы. С учётом того, что это не коммерческий проект, а какой-то национальный - Русский) это вообще возможно, чтобы синхротрон использовать в качестве источника? Ну например, чтоб вокруг этого источника ставить кучу литографов, а вокруг этих литографов строить свой супер-фаб?) Или это только дурная фантазия и утопия?)

mythmakinglife
Автор

Мог бы он амплитуду колебаний уменьшить, чтоб не исчезал из камеры🤣

VitarMain
Автор

Российские учёные работают на ASML. ASML поставляет линии в TSMC. TSMC производит чипы сверхвысокой степени для США. Которые потом возвращаются на наши головы в виде высокотехнологичных ракет и снарядов. При этом в России нет своей технологической оснастки для выпуска ИМС высокой степени интеграции, ни химии для полупроводников, ни технологий высококачественного кремния. Очень странная ситуация. Эпическую эпопею с Миландр мы все хорошо знаем.

MrXraymen
Автор

Дайте им милиарды рублей 😢пусть люди творят ❤

umkaumka
Автор

у китайцев проблема именно с лазером, может скооперироваться и убыстрить проект, они и лавешку дадут, у них 1.5 триллиона $ на эти дела выделены

dmitrymitrofanov
Автор

Кому-то платят за то, что работы по литографу буксуют. Чтобы у страны не было современного литографа.

MySaluto